HF(Hydrogen Fluoride)
HF(Hydrogen Fluoride, 불산)
HF는 Wafer 표면의 산화막을 제거하는데 매우 효과적이며 산화막을 제거하는 과정에서 미세입자와 금속 오염물 제거에도 매우 효과적입니다. 미세입자는 불산에 의해 실리콘 산화막이 Etching되는 과정에서 제거되며, 금속 불순물은 실리콘 산화막에 포획된 상태로 산화막과 함께 동시에 제거됩니다.
- Application -
| Chemical | Cleaning Method | Purpose of remove | Remark |
|---|---|---|---|
| HF / H2O | DHF | Si Oxide | 6HF+SiO2 → H2SiF6+2H2O / 3HF+M → MF3+3H+ |
| HF / NH4F / H2O | BOE, BHF | Si Oxide | 11.0 |
| HF / HNO3 | Slight Si Etch, Metals | ||
| HF / H2O2 | Slight Si Etch, Metals |